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Error RERF Photon Mono X
#1
Tengo una impresora de resina Anycubic Photon Mono X con el último firmware 3.5.4. Hace tiempo que venía imprimiendo el archivo RERF oficial de Anycubic para encontrar el tiempo de exposición óptimo, pero francamente no le encontraba utilidad. Recientemente se me ocurrió mandar a imprimir el RERF file para observar como trabaja, sin el VAT ni el plato de impresión instalados y noté que realmente el RERF se estaba imprimiendo mal. El RERF consiste en 8 piezas dispuestas en una matriz de 2 filas y 4 columnas, siendo el tiempo de exposición inicial 0.8s para la primera pieza, incrementándose en 0.4s para cada pieza subsiguiente, lo cual en teoría, debería dar una demora total por cada capa de 3.6s (el tiempo de exposición para la primera pieza debería ser 0.8s, para la segunda pieza 1.2s, para la tercera 1.6s, etc, hasta 3.6s para la última pieza). Lo que observé fue que la luz UV se desvanece muy lentamente en cada elemento de la matriz RERF, dando un tiempo total por capa de 10s aproximadamente, con lo cual la última pieza se imprime con un tiempo de exposición de 10s. Por este motivo es que la impresión del archivo RERF no me estaba dando resultados correctos. ¿Hay alguna manera de solucionar este inconveniente? Ya hice la consulta con el servicio de soporte de Anycubic, les expliqué y les envié un video del problema, pero no responden.
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